Perkin Elmer Lambda 800
Objektnummer | B00016470 |
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Numéro d'identification | 016470 |
Nom de l'objet | Perkin Elmer Lambda 800 |
Statut | Archiv |
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Statut |
Condition |
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Publié |
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Labprocure |
Occasion |
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manufacturer: Perkin Elmer
model: Lambda 800
annotation: Dokumente engl.
The following illustrations and descriptions refer to the instrument model and are drawn from brochures. They do not represent the scope of delivery. Please refer to the text of the offer for the exact scope of delivery.
Lambda 800
Key Features |
Unrivaled Benefits |
Wavelength Scanning t0 175 nm |
No additional option is required to scan below 185 nm (N 2 purging must be used) |
High Sensitivity PMT |
Gridless PMT design provides improved signal to noise in the UV region |
Standard Sample and Reference Beam Attenuators |
Included in basic instrument. No loss of sample compartment room. |
Standard RS232 Interface |
No computer compatibility problems |
Technical Description and Specifications Lambda 800
Principle |
Double beam, double monochromator, ratio recording UV/Vis spectrophotometer vvith microcomputer electronics, controlled by DELL PC or compatible Personal Computer. |
Optical System |
All reflecting optical system (SiO 2 coated) with holographic grating monochromator with 1440 Lines/mm UVNis blazed at 240 nm, Littrow mounting, sample thickness compensated detector optics. |
Beam Splitting System |
Chopper (46+ Hz, Cycle: Dark/Sampie/Dark/ Reference, Chopper Segment Signal Correction CSSC). |
Detector |
Photomultiplier R6872 for high energy in the whole UV/Vis wavelength range. |
Source |
Pre-aligned tungsten-halogen and deuterium. |
Wavelength Range(N 2 purge required below 185 nm) |
175 nm-900 nm |
UV/Vis Resolution |
< 0.05 nm |
Stray LightAt 200 nm (12 g/L KCI USP/DAP method) At 220 nm (10 g/L Nal ASTM method) At 340 nm (50 mg/L NaNO 2 ASTM method) At 370 nm (50 mg/L NaNO 2 ASTM method) |
> 2 A < 0.00008 %T < 0.00008 %T < 0.00008 %T
|
Wavelength Accuracy |
+/- 0.08 nm |
Wavelength ReproducibilityUV/Vis (Deuterium Lamp Lines) Standard deviation of 10 measurements UV/Vis
|
< 0.020 nm < 0.005 nm
|
Photometric AccuracyDouble Aperture Method 1 A Double Aperture Method 0.5 A N IST 1930D Filters 2 A NIST 930D Filters 1 A NIST 930D Filters 0.5 A K 2 Cr 2 0 7 -Solution USP/DAP method |
+/- 0.0006 A +/- 0.0003 A +/- 0.003 A +/- 0.003 A +/- 0.002 A +/- 0.010 A |
Photometric Linearity(Addition of filters UV/Vis at 546.1 -nm, Slit 2 nm, 1-sec. Integration Time) At 1.0 A At 2.0 A At 3.0 A |
+/-0.001A +/- 0.002 A +/- 0.006 A |
Photometric Reproducibility1 A wich NIST 930D Filter at 546.1-nm Standard Deviation for 10 measurements 0.5 A wich NIST 930D Filter at 546.1-nm Standard Deviation for 10 measurements 0.3 A wich NIST 930D Filter at 546.1-nm Standard Deviation for 10 measurements (2-nm Slit, 1 -sec. Integration) |
< 0.00016 A
< 0.00008 A
< 0.00008 A |
Photometric Range |
7 A (wich SRATT) |
Photometric Display |
Unlimited |
Bandpass |
0.05 nm-5.00 nm in 0.01 -nm increments UV/Vis range Fix resolution, constant energy or slit programming. |
Photometric Stability(After warm-up at 500 nm, 0 A, 2-nm Slit, 2-sec. Integration Time, Peak to Peak) |
< 0.0002 A/h |
Baseline Flatness(Lambda 900:190 nm-3100 nm, 2-nm Slit, Gain 1 NIR, 0.20-sec. UV/Vis-0,24-sec. NIR Integration Time, no smoothing applied) (Lambda 800: 190 nm-860 nm, 2-nm Slit, 0.20-sec. Integration Time, no smoothing applied) |
+/- 0.001 A |
Photometrie Noise RMS0A and 190 nm 0 A and 500 nm 2 A and 500 nm 4A and 500 nm 6 A and 500 nm (2-nm Slit, 1-sec.Integration Time, Gain 1 NIR) |
< 0.00010 A < 0.00005 A < 0.00020 A < 0.00100 A < 0.00500 A
|
Sample Compartment Instrument(W x D x H) |
200 mm x 300 mm x 220 mm |
PurgingOptics Sample Compartment |
YES YES |
Instrument Dimension (W x D x H) |
1020 mm x 630 mm x 300 mm |
Instrument Weight |
- 55 kg |
Digital 1/0 |
RS 232 C |
Light Beam |
90 mm above the base plate 120 mm beam separation 3 mm-12 mm beam height |
Instrument RequirementsPower Temperature Recommended Humidity |
90VAC-250VAC,50/60 Hz; 400VA 10°C-35,C 10-70% relative humidity, non-condensing |