Balzers SCD 004
| Objektnummer | B00006892 |
|---|---|
| Numéro d'identification | 006892 |
| Nom de l'objet | Balzers SCD 004 |
| Statut | Stock unit |
Groupe de produits: Microscpoes èléctronique
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Modalités de paiement possible |
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Publié |
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Appareil neuf |
Neuf |
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Labprocure |
Occasion |
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Frontansicht des Gerätes
2/1 Probenkammer-Sockel
2/2 Glaszylinder
2/3 Sputterkopf
2/4 Gasdosier- und Belüftungsventil
2/5 Netzschalter
2/6 Bedienungs- und Anzeigepanel
Prinzipschema des Sputterprozesses
In einer evakuierten Probenkammer wird über ein Gas-Dosierventil durch Einlassen von vorzugsweise Argongas ein Druck von ca. 0,05 mbar eingestellt. Anschliessend wird zwischen dem Objekttisch (Anode) und dem Sputter-Target (Kathode) durch Anlegen von Hochspannung eine Glimmentladung gezündet. Die dabei zur Kathode hin beschleunigten, positiv geladenen Argongas-Ionen schlagen bei ihrem Aufprall auf das Sputter-Target aus diesem Metallatome heraus. Zwischen den freigewordenen Metallatomen und den in der Probenkammer zahlreich vorhandenen Gasmolekülen kommt es zu wiederholten Zusammenstössen und in der Folge zu einer starken Streuung der freien Metallatome. Es bildet sich eine diffuse "Metallatom-Wolke", aus der sich die Atome weitgehend gleichmässig auf allen Flächen der Umgebung, unter anderem auch auf der zu beschichtenden Probenoberfläche, ablagern. Dabei bildet sich auch auf einer stark zerklüfteten Präparatoberfläche eine homogene, dünne Metallschicht mit einer für Rastermikroskop-Proben ausreichenden elektrischen Leitfähigkeit. Diese ist neben dem Targetmaterial vom Arbeitsabstand, dem Gasdruck, dem Glimmstrom und der Prozess-Dauer abhängig. In der Praxis werden die zu wählenden Parameter von der Temperaturbelastbarkeit des zu beschichtenden Präparates entschieden. So wird z.B. bei temperaturempfindlichen Proben ein möglichst grosser Arbeitsabstand und ein niedrigerer Glimmstrom gewählt, dafür aber eine längere Sputterzeit in Kauf genommen.
TECHNISCHE DATEN SCD 004
Abmessungen
Gerät:
Breite 490 mm
Tiefe 510 mm
Höhe 305 mm
Glaszylinder
Durchmesser 108 - mm
Höhe 106 mm
Probentisch
Durchmesser 100 mm
Sputtertarget
Durchmesser 54 mm
Arbeitsabstand
minimal 33 mm
maximal 85 mm
Gewicht 21 kg Anschlüsse
Elektrischer Anschluss:
Spannung (L+N+PE) 220 V (115 V)
Frequenz 50 Hz (60 Hz)
Leistungsaufnahme
ohne Vakuumpumpe 100 VA
mit Vakuumpumpe 390 VA
Hauptsicherung 1,25 AT (bei 220 V)
2,5 AT(bei 115 V)
Betriebsgas (Argon):
Druck (Überdruck) 1 - 2 bar
Verbrauch 0,3 mbar l/sek
Anschluss (Schlauchtülle) Ø 6 mm (G 1/8")
Vakuum-Anschluss:
Schlauchwelle Ø 28 mm
Betriebsdaten
Sputterstrom: max. 60 mA
Hochspannung: max. 600 V DC
Sputterrate:
für Gold bei einem Abstand ca. 14,5 nm/min
von 35mm in Argonatmosphäre bei 15 mA
Sputterzeit:
Einstellbar 0-999 sek.
Pumpzeit:
Auf 5 x 10 2 mbar mit einer
zweistufigen Drehschieberpumpe
mit 4m 3 /h Saugvermögen ca. 2 min
Belüftungszeit: ca. 80 sek.
